Το εξαφθοριούχο θείο είναι ένα αέριο με εξαιρετικές μονωτικές ιδιότητες και χρησιμοποιείται συχνά σε πυρόσβεση τόξου υψηλής τάσης και μετασχηματιστές, γραμμές μεταφοράς υψηλής τάσης, μετασχηματιστές κ.λπ. .Το εξαφθοριούχο θείο υψηλής καθαρότητας ηλεκτρονικής ποιότητας είναι ένα ιδανικό ηλεκτρονικό χαρακτικό, το οποίο χρησιμοποιείται ευρέως στον τομέα της τεχνολογίας μικροηλεκτρονικής.Σήμερα, ο ειδικός επεξεργαστής αερίων Niu Ruide, Yueyue, θα εισαγάγει την εφαρμογή εξαφθοριούχου θείου στη χάραξη νιτριδίου του πυριτίου και την επίδραση διαφορετικών παραμέτρων.
Συζητάμε τη διαδικασία χάραξης πλάσματος SF6 SiNx, συμπεριλαμβανομένης της αλλαγής της ισχύος πλάσματος, της αναλογίας αερίων SF6/He και της προσθήκης του κατιονικού αερίου O2, συζητώντας την επιρροή του στον ρυθμό χάραξης του στρώματος προστασίας στοιχείων SiNx του TFT και χρησιμοποιώντας την ακτινοβολία πλάσματος. Το φασματόμετρο αναλύει τις αλλαγές συγκέντρωσης κάθε είδους στο πλάσμα SF6/He, SF6/He/O2 και τον ρυθμό διάστασης SF6 και διερευνά τη σχέση μεταξύ της αλλαγής του ρυθμού χάραξης SiNx και της συγκέντρωσης των ειδών στο πλάσμα.
Μελέτες έχουν βρει ότι όταν αυξάνεται η ισχύς του πλάσματος, ο ρυθμός χάραξης αυξάνεται.Εάν ο ρυθμός ροής του SF6 στο πλάσμα είναι αυξημένος, η συγκέντρωση του ατόμου F αυξάνεται και συσχετίζεται θετικά με τον ρυθμό χάραξης.Επιπλέον, μετά την προσθήκη του κατιονικού αερίου O2 κάτω από το σταθερό συνολικό ρυθμό ροής, θα έχει ως αποτέλεσμα την αύξηση του ρυθμού χάραξης, αλλά υπό διαφορετικές αναλογίες ροής O2/SF6, θα υπάρχουν διαφορετικοί μηχανισμοί αντίδρασης, οι οποίοι μπορούν να χωριστούν σε τρία μέρη : (1 ) Ο λόγος ροής O2/SF6 είναι πολύ μικρός, το O2 μπορεί να βοηθήσει στη διάσπαση του SF6 και ο ρυθμός χάραξης αυτή τη στιγμή είναι μεγαλύτερος από όταν δεν προστίθεται O2.(2) Όταν ο λόγος ροής O2/SF6 είναι μεγαλύτερος από 0,2 στο διάστημα που πλησιάζει το 1, αυτή τη στιγμή, λόγω της μεγάλης ποσότητας διάστασης του SF6 για να σχηματιστούν άτομα F, ο ρυθμός χάραξης είναι ο υψηλότερος.αλλά ταυτόχρονα, τα άτομα O στο πλάσμα αυξάνονται επίσης και είναι εύκολο να σχηματιστεί SiOx ή SiNxO(yx) με την επιφάνεια του φιλμ SiNx, και όσο περισσότερα άτομα O αυξάνονται, τόσο πιο δύσκολα θα είναι τα άτομα F για αντίδραση χάραξης.Επομένως, ο ρυθμός χάραξης αρχίζει να επιβραδύνεται όταν ο λόγος O2/SF6 είναι κοντά στο 1. (3) Όταν ο λόγος O2/SF6 είναι μεγαλύτερος από 1, ο ρυθμός χάραξης μειώνεται.Λόγω της μεγάλης αύξησης του O2, τα διασπαρμένα άτομα F συγκρούονται με το O2 και σχηματίζουν OF, γεγονός που μειώνει τη συγκέντρωση των ατόμων F, με αποτέλεσμα τη μείωση του ρυθμού χάραξης.Μπορεί να φανεί από αυτό ότι όταν προστίθεται O2, ο λόγος ροής του O2/SF6 είναι μεταξύ 0,2 και 0,8 και μπορεί να επιτευχθεί ο καλύτερος ρυθμός χάραξης.
Ώρα δημοσίευσης: Δεκ-06-2021
